Integrated micro and nanoscale metal assisted chemical etch process with a uniform and clean etch front

WO2024187084 Art A1 12. September 2024

Anmelder: BOARD OF REGENTS, THE UNIVERSITY OF TEXAS SYSTEM, SILICON METAMATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024187084
Aktenzeichen: EP24767894
Anmeldetag: 8. März 2024
Veröffentlichung: 12. September 2024
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/306H01L21/3213B81C1/00H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: BOARD OF REGENTS, THE UNIVERSITY OF TEXAS SYSTEM
SILICON METAMATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 University of Texas System

US-amerikanischer Universitätsverbund mit Sitz in Austin, Texas, bestehend aus mehreren Hochschulen und medizinischen Zentren. Der University of Texas System ist in Forschung zu Medizin, Naturwissenschaften, Ingenieurwesen und Biotechnologie aktiv.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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