Photosensitive organic insulating material composition, insulating film, gate insulating film, transistor, electronic device, and method for manufacturing transistor

WO2024189875 Art A1 19. September 2024

Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024189875
Aktenzeichen: EP23927494
Anmeldetag: 16. März 2023
Veröffentlichung: 19. September 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/038

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NIKON CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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