Photomask blank, photomask, method for manufacturing photomask blank, method for manufacturing photomask, and method for manufacturing device

WO2024190208 Art A1 19. September 2024

Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024190208
Aktenzeichen: EP24770326
Anmeldetag: 9. Februar 2024
Veröffentlichung: 19. September 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/32

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: NIKON CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

5.286 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von