Radiation-sensitive composition, resist pattern formation method, polymer, and compound

WO2024190386 Art A1 19. September 2024

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024190386
Aktenzeichen: EP24770498
Anmeldetag: 26. Februar 2024
Veröffentlichung: 19. September 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C08F12/30C08F20/38G03F7/20G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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