Mask pattern formation method and substrate processing method

WO2024190480 Art A1 19. September 2024

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED, NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION OKAYAMA UNIVERSITY 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024190480
Aktenzeichen: EP24770591
Anmeldetag: 4. März 2024
Veröffentlichung: 19. September 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C08F2/46C08F26/00G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: TOKYO ELECTRON LIMITED
NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION OKAYAMA UNIVERSITY
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.253 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 National University Corporation Okayama University

Die National University Corporation Okayama University ist die Trägerschaft der japanischen Okayama-Universität. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Medizintechnik sowie Pharma und organische Chemie, ergänzt um Mess- und Verfahrenstechnik. Anmeldungen decken den Zeitraum 2002 bis 2025 ab.

416 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von