Substrate cleaning device, substrate cleaning method, and semiconductor device manufacturing method

WO2024190530 Art A1 19. September 2024

Anmelder: MEIDENSHA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024190530
Aktenzeichen: EP24770640
Anmeldetag: 5. März 2024
Veröffentlichung: 19. September 2024
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/304H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: MEIDENSHA CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Meidensha

Meidensha ist ein japanischer Hersteller elektrischer Anlagen und Maschinen, unter anderem für Energieversorgung, Bahntechnik und Industrieanwendungen. Das Patentportfolio konzentriert sich auf elektrische Energietechnik sowie Mess-, Prüf- und Zeitmesstechnik, ergänzt durch Halbleiter und elektrische Bauelemente. Anmeldungen laufen durchgehend von 2004 bis 2025.

646 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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