Substrate processing method and substrate processing device, and manufacturing method for semiconductor device and semiconductor manufacturing device

WO2024195223 Art A1 26. September 2024

Anmelder: SCREEN HOLDINGS CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024195223
Aktenzeichen: EP23928790
Anmeldetag: 13. Dezember 2023
Veröffentlichung: 26. September 2024
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/312H01L21/306

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 SCREEN Holdings

Japanischer Technologiekonzern. SCREEN Holdings stellt Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie her, insbesondere Wafer-Reinigungs- und Beschichtungssysteme, sowie Druck- und Bildverarbeitungstechnik.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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