Reflective mask blank for euv lithography and substrate equipped with conductive film

WO2024195577 Art A1 26. September 2024

Anmelder: AGC INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024195577
Aktenzeichen: EP24774716
Anmeldetag: 7. März 2024
Veröffentlichung: 26. September 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/24C23C14/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: AGC INC.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 AGC (Asahi Glass)

Japanischer Glas- und Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, früher als Asahi Glass Company firmierend. AGC entwickelt Flachglas, elektronische Materialien, Spezialchemikalien sowie Glasprodukte für Automobil-, Bau- und Elektronikindustrie.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

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