Semiconductor device having isolation structure, and manufacturing method for isolation structure

WO2024198515 Art A1 3. Oktober 2024

Anmelder: CSMC TECHNOLOGIES FAB2 CO., LTD. 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2024198515
Aktenzeichen
EP23930080
Anmeldetag
12. Dezember 2023
Veröffentlichung
3. Oktober 2024
Rechtsraum
WO
IPC
H01L29/06
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
CSMC TECHNOLOGIES FAB2 CO., LTD.
Land
🇨🇳 China
🇨🇳 CSMC Technologies Fab2

CSMC Technologies Fab2 Co., Ltd. ist ein chinesischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Wuxi, der als Foundry Leistungshalbleiter und analoge Bauelemente fertigt. Das Patentportfolio konzentriert sich fast vollständig auf Halbleiter und elektrische Bauelemente, ergänzt um Elektronik, Optik und Mess- und Prüftechnik. Anmeldungen erfolgen seit 2010 bis in die Gegenwart.

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