Method for selectively modifying substrate surface, method for producing surface-treated substrate, and composition

WO2024202340 Art A1 3. Oktober 2024

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024202340
Aktenzeichen: EP23930956
Anmeldetag: 25. Dezember 2023
Veröffentlichung: 3. Oktober 2024
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/28B05D7/24C23C26/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Verfahrens- & Trenntechnik

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