Photosensitive composition, pattern-forming method using same, and transition metal cluster compound
WO2024202889
Art A1
3. Oktober 2024
Anmelder: MITSUBISHI CHEMICAL CORPORATION, NATIONAL INSTITUTES FOR QUANTUM SCIENCE AND TECHNO 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2024202889
- Aktenzeichen
- EP24779028
- Anmeldetag
- 29. Februar 2024
- Veröffentlichung
- 3. Oktober 2024
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/004C07C271/28C07F9/94G03F7/20G03F7/32
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- MITSUBISHI CHEMICAL CORPORATION
NATIONAL INSTITUTES FOR QUANTUM SCIENCE AND TECHNO - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, Teil der Mitsubishi-Chemical-Gruppe. Das Unternehmen entwickelt Grund- und Spezialchemikalien, Kunststoffe, Materialien für Elektronik und Energiespeicher sowie Pharma- und Life-Science-Produkte.
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