Tantalum carbide coating material and compound semiconductor growth device

WO2024203038 Art A1 3. Oktober 2024

Anmelder: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024203038
Aktenzeichen: EP24779176
Anmeldetag: 5. März 2024
Veröffentlichung: 3. Oktober 2024
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/32C04B41/87C30B29/36

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von