Resin composition, method for producing interlayer insulating film for rewiring layer, and photosensitive agent

WO2024203222 Art A1 3. Oktober 2024

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024203222
Aktenzeichen: EP24779352
Anmeldetag: 11. März 2024
Veröffentlichung: 3. Oktober 2024
Rechtsraum: WO
IPC: C08L101/00C08K5/55C08K5/3432C08L79/04C08L79/08G03F7/004G03F7/038H01L21/312

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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