Radiation-sensitive composition, resist pattern formation method, and radiation-sensitive acid generator

WO2024203352 Art A1 3. Oktober 2024

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024203352
Aktenzeichen: EP24779481
Anmeldetag: 13. März 2024
Veröffentlichung: 3. Oktober 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07D307/12C07D317/18C07D317/70C07D327/08C07D333/46C07D333/76C07D335/12C07D339/08C09K3/00G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Optik & Fototechnik Organische Chemie

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