Resist polymer, photosensitive resin composition, interlayer insulating film, and polymer production method.

WO2024203692 Art A1 3. Oktober 2024

Anmelder: NIPPON SHOKUBAI CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024203692
Aktenzeichen: EP24779815
Anmeldetag: 21. März 2024
Veröffentlichung: 3. Oktober 2024
Rechtsraum: WO
IPC: C08F222/40C08F8/14C08F212/06C08F220/04G03F7/004G03F7/033G03F7/038

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NIPPON SHOKUBAI CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nippon Shokubai

Japanisches Chemieunternehmen, das unter anderem Acrylsäure, Superabsorber und Katalysatoren für die Industrie produziert.

1.571 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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