Gas releasing underlayers for photopatternable organometallic resist

WO2024205936 Art A1 3. Oktober 2024

Anmelder: INPRIA CORPORATION, JSR CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024205936
Aktenzeichen: EP24781528
Anmeldetag: 14. März 2024
Veröffentlichung: 3. Oktober 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/09G03F7/004G03F7/11G03F7/16G03F7/20G03F7/40G03F7/42

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: INPRIA CORPORATION
JSR CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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