Radioactive-ray-sensitive resin composition and pattern formation method

WO2024209754 Art A1 10. Oktober 2024

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024209754
Aktenzeichen: EP23932162
Anmeldetag: 27. Dezember 2023
Veröffentlichung: 10. Oktober 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07D307/58C07D317/70C08F12/14G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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