Radiation-sensitive composition, method for forming pattern, and onium salt

WO2024209925 Art A1 10. Oktober 2024

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024209925
Aktenzeichen: EP24784717
Anmeldetag: 19. März 2024
Veröffentlichung: 10. Oktober 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07D307/00C07D307/33C07D317/72C07D321/10C07D327/06C07D327/08C07D333/46C07D333/76C07D493/02C07D497/20C08F20/18G03F7/20G03F7/038G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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