Etching method and etching apparatus

WO2024210020 Art A1 10. Oktober 2024

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED, NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION TOKAI NATIONAL HIG 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024210020
Aktenzeichen: EP24784809
Anmeldetag: 27. März 2024
Veröffentlichung: 10. Oktober 2024
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: TOKYO ELECTRON LIMITED
NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION TOKAI NATIONAL HIG
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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🇯🇵 National University Corporation Tokai National Higher Education and Research System

Die National University Corporation Tokai National Higher Education and Research System ist ein japanischer Hochschulverbund mit medizinischem und naturwissenschaftlichem Forschungsschwerpunkt. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Medizintechnik und Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Pharma-/Biotechnologie und Messtechnik. Die Anmeldungen aus 2019 bis 2025 reichen von Osteogenese-Fördermitteln bis zu Polymer-Elektrolytmembranen.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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