Photosensitive resin composition, method for producing cured relief pattern, cured film, and semiconductor device

WO2024210063 Art A1 10. Oktober 2024

Anmelder: ASAHI KASEI KABUSHIKI KAISHA 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024210063
Aktenzeichen: EP24784849
Anmeldetag: 29. März 2024
Veröffentlichung: 10. Oktober 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/037C08F2/44G03F7/004G03F7/20G03F7/027G03F7/075

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASAHI KASEI KABUSHIKI KAISHA
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Asahi Kasei

Asahi Kasei ist ein japanischer Mischkonzern mit Sitz in Tokio, der in den Bereichen Chemie und Kunststoffe, Wohnungsbau sowie Medizintechnik tätig ist. Das 1922 gegründete Unternehmen zählt zu den größten Chemiekonzernen Japans.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von