Polishing pad, polishing apparatus, and method for manufacturing polishing pad

WO2024210464 Art A1 10. Oktober 2024

Anmelder: KOREA ADVANCED INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024210464
Aktenzeichen: EP24785169
Anmeldetag: 2. April 2024
Veröffentlichung: 10. Oktober 2024
Rechtsraum: WO
IPC: B24B37/24B24B37/26B24B37/10B24D11/00B33Y10/00B33Y80/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: KOREA ADVANCED INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 KAIST

Südkoreanische technische Universität und Forschungsinstitution mit Fokus auf Ingenieurwissenschaften, Naturwissenschaften und Technologieentwicklung, unter anderem in Robotik und Elektronik.

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Fachgebiete

Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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