Hard mask for grey-tone (gt) photoresist thickness control

WO2024211339 Art A1 10. Oktober 2024

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024211339
Aktenzeichen: EP24785653
Anmeldetag: 3. April 2024
Veröffentlichung: 10. Oktober 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G02B6/00G02B5/18G02B27/01G02B1/11G03F7/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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