Film deposition method

WO2024214601 Art A1 17. Oktober 2024

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED, KAGOSHIMA UNIVERSITY 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024214601
Aktenzeichen: EP24788628
Anmeldetag: 2. April 2024
Veröffentlichung: 17. Oktober 2024
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/312

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: TOKYO ELECTRON LIMITED
KAGOSHIMA UNIVERSITY
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.253 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Kagoshima University

Die Kagoshima University ist eine japanische staatliche Universität auf der Insel Kyushu. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Medizintechnik, organische Chemie und Pharma, ergänzt um Mess- und Verfahrenstechnik. Die Anmeldungen decken ein breites Spektrum ab, von Kommunikationstechnik bis zur Pflanzenzüchtung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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