Thin film manufacturing method, thin film obtained therefrom, and semiconductor substrate and semiconductor element including thin film

WO2024219883 Art A1 24. Oktober 2024

Anmelder: SOULBRAIN CO., LTD., SK HYNIX INC. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2024219883
Aktenzeichen
EP24793067
Anmeldetag
19. April 2024
Veröffentlichung
24. Oktober 2024
Rechtsraum
WO
IPC
C23C16/04C23C16/455H01L21/285H01L21/02H01L21/768
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen
SOULBRAIN CO., LTD.
SK HYNIX INC.
Land
🇰🇷 Südkorea
🇰🇷 SK hynix

Südkoreanischer Halbleiterhersteller, der Speicherchips wie DRAM und NAND-Flash für Computer, Server und mobile Geräte produziert.

136 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von

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