Methods and systems for measurement of semiconductor structures with multi-pass statistical optimization
WO2024220228
Art A1
24. Oktober 2024
Anmelder: KLA CORPORATION 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2024220228
- Aktenzeichen
- EP24793227
- Anmeldetag
- 2. April 2024
- Veröffentlichung
- 24. Oktober 2024
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G01N23/083G01N23/18H01L21/66
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- KLA CORPORATION
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
KLA Corporation
US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.
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