Etching uniformity adjustment method and semiconductor process device

WO2024222939 Art A1 31. Oktober 2024

Anmelder: BEIJING NAURA MICROELECTRONICS EQUIPMENT CO., LTD. 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2024222939
Aktenzeichen
EP24796308
Anmeldetag
28. April 2024
Veröffentlichung
31. Oktober 2024
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/02H01L21/66H01L21/67H01J37/32
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
BEIJING NAURA MICROELECTRONICS EQUIPMENT CO., LTD.
Land
🇨🇳 China
🇨🇳 Beijing NAURA Microelectronics Equipment

Beijing NAURA Microelectronics Equipment ist ein chinesischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik, mit weiteren Anmeldungen in Elektronik und Prozesssteuerung. Anmeldungen reichen von 2013 bis in die Gegenwart.

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