Repair process for clear defects on euv psm masks

WO2024223530 Art A1 31. Oktober 2024

Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024223530
Aktenzeichen: EP24721617
Anmeldetag: 23. April 2024
Veröffentlichung: 31. Oktober 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/74C23C16/04C23C14/00H01J37/00G03F1/26

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: CARL ZEISS SMT GMBH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

2.391 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

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