Method for producing surface-treated substrate, method for selectively modifying substrate surface, composition, and compound
WO2024225048
Art A1
31. Oktober 2024
Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2024225048
- Aktenzeichen
- EP24796804
- Anmeldetag
- 10. April 2024
- Veröffentlichung
- 31. Oktober 2024
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/312
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JSR CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
2.270 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.