Composition for forming wet-removable silicon-containing resist underlayer film

WO2024225411 Art A1 31. Oktober 2024

Anmelder: NISSAN CHEMICAL CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024225411
Aktenzeichen: EP24797156
Anmeldetag: 26. April 2024
Veröffentlichung: 31. Oktober 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11G03F7/20H01L21/312

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NISSAN CHEMICAL CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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