System, method, and apparatus for flow tuning

WO2024226137 Art A1 31. Oktober 2024

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024226137
Aktenzeichen: EP24797606
Anmeldetag: 30. Januar 2024
Veröffentlichung: 31. Oktober 2024
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/67G05D7/06F16K11/10

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

2.725 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Maschinenelemente & Fluidtechnik Steuerungs- & Regelungstechnik

Vertreten von