Process tuning system for substrate processing systems

WO2024228827 Art A1 7. November 2024

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024228827
Aktenzeichen: EP24800353
Anmeldetag: 17. April 2024
Veröffentlichung: 7. November 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G05B19/418G05B19/042

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Steuerungs- & Regelungstechnik

Vertreten von