Adjusting Cathode Temperature in Electrodeposition

WO2024228849 Art A1 7. November 2024

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024228849
Aktenzeichen: EP24800360
Anmeldetag: 19. April 2024
Veröffentlichung: 7. November 2024
Rechtsraum: WO
IPC: C25D17/00C25D17/08C25D21/02C25D21/12C25D7/12

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: LAM RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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