Resistunterschichtfilmbildende Zusammensetzung

WO2024232380 Art A1 14. November 2024

Anmelder: Nissan Chemical Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024232380
Aktenzeichen: EP24803489
Anmeldetag: 8. Mai 2024
Veröffentlichung: 14. November 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11C08F212/02C08L25/00G03F7/038G03F7/039H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nissan Chemical Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von