Oxidative surface treatments on underlayers to reduce the dose to size of euv photoresists

WO2024233496 Art A1 14. November 2024

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024233496
Aktenzeichen: EP24804114
Anmeldetag: 6. Mai 2024
Veröffentlichung: 14. November 2024
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G03F7/11G03F7/16G03F7/004

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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