Trockener Fotoresist oder Hartmaske für die Euv-Lithographie

WO2024236374 Art A1 21. November 2024

Anmelder: International Business Machines Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024236374
Aktenzeichen: EP24720580
Anmeldetag: 8. April 2024
Veröffentlichung: 21. November 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07F9/94

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: International Business Machines Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 IBM

US-amerikanischer Technologiekonzern mit Sitz in Armonk, New York. International Business Machines entwickelt Hardware, Software, Cloud-Dienste sowie Lösungen für künstliche Intelligenz, Halbleiter und Unternehmens-IT.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Organische Chemie

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