Splash-proofing device for photoresist stripping process, photoresist stripping apparatus, and chemical solution delivery apparatus

WO2024239948 Art A1 28. November 2024

Anmelder: ACM RESEARCH (SHANGHAI), INC. 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024239948
Aktenzeichen: EP24810195
Anmeldetag: 6. Mai 2024
Veröffentlichung: 28. November 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/42B05C9/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ACM RESEARCH (SHANGHAI), INC.
Land: 🇨🇳 China

🇨🇳 ACM Research (Shanghai)

ACM Research (Shanghai) ist die chinesische Tochtergesellschaft des US-notierten Halbleiterausrüsters ACM Research mit Sitz in Shanghai, der Reinigungs- und Beschichtungsanlagen für die Chipfertigung herstellt. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie- und Verfahrenstechnik. Die Anmeldungen decken den Zeitraum von 2007 bis 2025 ab.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Verfahrens- & Trenntechnik

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