Substrate manufacturing method

WO2024241755 Art A1 28. November 2024

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024241755
Aktenzeichen: EP24810763
Anmeldetag: 15. April 2024
Veröffentlichung: 28. November 2024
Rechtsraum: WO
IPC: H05K3/10H05K1/09H05K3/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik

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