Method for forming photoresist thin film reactive to extreme ultraviolet rays, and photoresist thin film formed thereby

WO2024242478 Art A1 28. November 2024

Anmelder: DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024242478
Aktenzeichen: EP24811416
Anmeldetag: 23. Mai 2024
Veröffentlichung: 28. November 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/16G03F7/004G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: DONGJIN SEMICHEM CO., LTD.
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Dongjin Semichem

Der Anmelder ist ein südkoreanischer Hersteller von Chemikalien für die Halbleiter- und Displayindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und Elektrobauelemente sowie auf Klebstoffe, Optik und Kunststofftechnik, insbesondere Fotoresists und Materialien für Dünnschichtprozesse. Anmeldungen laufen seit dem Jahr 2000 durchgehend fort.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von