Electron shower induced deposition systems, methods of use thereof, and methods of making nanostructures

WO2024243117 Art A2 28. November 2024

Anmelder: GEORGIA TECH RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024243117
Aktenzeichen: EP24811719
Anmeldetag: 20. Mai 2024
Veröffentlichung: 28. November 2024
Rechtsraum: WO
IPC: C23C18/14B05B1/02B05B5/16B82Y40/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: GEORGIA TECH RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Georgia Tech Research Corporation

Die Georgia Tech Research Corporation ist die Einrichtung des Georgia Institute of Technology in den USA, die Forschungsverträge verwaltet und geistiges Eigentum der Universität lizenziert.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Verfahrens- & Trenntechnik

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