Generating synthetic microscopy images of substrates

WO2024243550 Art A1 28. November 2024

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024243550
Aktenzeichen: EP24812007
Anmeldetag: 24. Mai 2024
Veröffentlichung: 28. November 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G06T5/50G06T7/60G06T5/60G06T5/70G06T5/77G06T3/40G06N20/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

10.780 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Software & Datenverarbeitung

Vertreten von