Process tank temperature-measuring device and substrate processing apparatus
WO2024244926
Art A1
5. Dezember 2024
Anmelder: ACM RESEARCH (SHANGHAI), INC., ACM RESEARCH (LINGANG), INC. 🇨🇳
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2024244926
- Aktenzeichen
- EP24814129
- Anmeldetag
- 8. Mai 2024
- Veröffentlichung
- 5. Dezember 2024
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G01K1/10G01K1/08
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ACM RESEARCH (SHANGHAI), INC.
ACM RESEARCH (LINGANG), INC. - Land
- 🇨🇳 China
🇨🇳
ACM Research (Shanghai)
ACM Research (Shanghai) ist die chinesische Tochtergesellschaft des US-notierten Halbleiterausrüsters ACM Research mit Sitz in Shanghai, der Reinigungs- und Beschichtungsanlagen für die Chipfertigung herstellt. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie- und Verfahrenstechnik. Die Anmeldungen decken den Zeitraum von 2007 bis 2025 ab.
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