Verfahren und Planungsvorrichtung zum Planen einer Lokal Selektiven Bestrahlung eines Arbeitsbereichs mit einem Energiestrahl, sowie Verfahren und Fertigungsvorrichtung zum Additiven Fertigen eines Bauteils aus einem Pulvermaterial
WO2024245732
Art A1
5. Dezember 2024
Anmelder: Trumpf Laser- und Systemtechnik GmbH 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2024245732
- Aktenzeichen
- EP24726217
- Anmeldetag
- 14. Mai 2024
- Veröffentlichung
- 5. Dezember 2024
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B22F10/28B22F10/366B22F12/45B28B1/00B33Y10/00B33Y30/00B33Y50/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Trumpf Laser- und Systemtechnik GmbH
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Trumpf Laser- und Systemtechnik
Der Anmelder ist eine deutsche Gesellschaft des Maschinenbaukonzerns Trumpf mit Fokus auf Lasertechnik. Das Patentportfolio konzentriert sich stark auf Fertigungs- und Drucktechnik, ergänzt durch Kunststofftechnik, Optik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen laufen seit dem Jahr 2000 durchgehend fort.
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