Methods and apparatuses for obtaining a calibration for a substrate topography measurement and methods and apparatuses for determining a topography of a substrate using the calibration

WO2024245892 Art A1 5. Dezember 2024

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024245892
Aktenzeichen: EP24726665
Anmeldetag: 23. Mai 2024
Veröffentlichung: 5. Dezember 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F9/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von