Formation of memory device channel holes using doped film layer

WO2024249216 Art A1 5. Dezember 2024

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024249216
Aktenzeichen: EP24816162
Anmeldetag: 22. Mai 2024
Veröffentlichung: 5. Dezember 2024
Rechtsraum: WO
IPC: H10B43/27H10B43/35H01L29/792H01L29/66

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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