Position measurement system, substrate positioning system, lithographic apparatus and method to measure a position of a movable object

WO2024251476 Art A1 12. Dezember 2024

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024251476
Aktenzeichen: EP24725363
Anmeldetag: 14. Mai 2024
Veröffentlichung: 12. Dezember 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G01B9/02015G03F7/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von