A lithographic apparatus and inspection system with hybrid free space optics and photonic integrated circuits

WO2024251507 Art A1 12. Dezember 2024

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024251507
Aktenzeichen: EP24728043
Anmeldetag: 20. Mai 2024
Veröffentlichung: 12. Dezember 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/00G01M11/00G01N21/95G01N21/956G02B6/124G03F9/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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