Integrierte Schaltung und Verfahren zur Herstellung davon
Anmelder: Tohoku University, National Institute of Information and Communications Technology, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2024252800
- Aktenzeichen
- EP24819038
- Anmeldetag
- 18. April 2024
- Veröffentlichung
- 12. Dezember 2024
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L29/16H01L21/338H01L29/778H01L29/812H01P5/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Tohoku University
National Institute of Information and Communications Technology
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. - Land
- 🇯🇵 Japan
Staatliche Universität in Sendai, Japan, mit Forschungsschwerpunkten unter anderem in Materialwissenschaften und Werkstofftechnik.
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Das National Institute of Information and Communications Technology ist eine staatliche japanische Forschungseinrichtung für Kommunikations- und Informationstechnologien. Der Patentbestand konzentriert sich auf Nachrichtentechnik sowie Optik-, Software- und Halbleitertechnik.
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Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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