Resist composition, resist pattern formation method, compound, and polymer compound

WO2024252943 Art A1 12. Dezember 2024

Anmelder: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024252943
Aktenzeichen: EP24819175
Anmeldetag: 23. Mai 2024
Veröffentlichung: 12. Dezember 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039C07D209/42C07D307/79C07D307/83C07D307/84C07D307/85C07D307/86C07D333/70C07D409/14C08F20/30

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Ohka Kogyo

Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.

927 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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