Verfahren und Vorrichtung zur Rps-Rf-Plasmareinigung und -Aktivierung für Fortgeschrittene Halbleiterverpackung
WO2024253760
Art A1
12. Dezember 2024
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2024253760
- Aktenzeichen
- EP24819748
- Anmeldetag
- 17. April 2024
- Veröffentlichung
- 12. Dezember 2024
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/67C23C16/56H01L21/687H01J37/32C23C16/455H01L23/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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