Verfahren zur Einarbeitung von Temperierhohlstrukturen in ein Substrat, insbesondere in ein Substrat für ein Optisches Element, Verfahren und Substrat zur Herstellung eines Optischen Elements, Optisches Element sowie Anlage der Halbleitertechnologie und Strukturiertes Elektronisches Bauelement

WO2024256201 Art A1 19. Dezember 2024

Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024256201
Aktenzeichen: EP24731831
Anmeldetag: 3. Juni 2024
Veröffentlichung: 19. Dezember 2024
Rechtsraum: WO
IPC: B23K26/00B23K26/142B23K26/146B23K26/53B23K26/55G02B5/08B23K103/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: CARL ZEISS SMT GMBH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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